或者邊肖想給每個人帶來一些知識。今天我們來看看光催化氧化設(shè)備的特點和工作原理。好奇的朋友們現(xiàn)在就來看看邊肖。
一、光催化氧化設(shè)備的工作原理:
1.采用特殊的高能、高臭氧紫外輻射束對廢氣進行裂解，可有效處理廢氣中的硫化氫、甲基硫、甲硫醇、甲基硫、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC等分子鏈結(jié)構(gòu)。，使得有機或無機聚合物廢氣化合物的分子鏈可以降解成低分子化合物，例如CO2、H2O等。在高能紫外線的照射下。
2.空氣體中的氧分子被高能、高臭氧的UV光束分解，產(chǎn)生自由氧，即活性氧，由于自由氧攜帶的正負電子不平衡，需要與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。臭氧對紫外線照射分解的有機物有很強的氧化作用，對惡臭氣體等刺激性氣味有很好的去除效果。
3.惡臭氣體通過廢氣收集和排放設(shè)備進入帶有紫外光高效光解氧化模塊的反應(yīng)室后，通過高能紫外光束和臭氧協(xié)同分解氧化惡臭氣體，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳，然后通過排氣管排放到室外。
4.用高能紫外光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸(DNA)，然后用臭氧進行氧化反應(yīng)，徹底達到除臭殺菌的目的。
二、光催化氧化設(shè)備的特點:
1.光催化氧化設(shè)備可以高效去除揮發(fā)性有機化合物、硫化氫、氨等無機污染物，以及各種惡臭氣味。除臭效率可達99%以上，除臭效果遠優(yōu)于國家惡臭污染物排放標準(GB14554-93)
2.光催化氧化設(shè)備可以適用于大多數(shù)高濃度、大氣和不同惡臭氣體的除臭和凈化處理。通過合理的模塊配置，可廣泛用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站、污水泵房、中央空廠等惡臭氣體的除臭、殺菌、凈化處理。它可以24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
3.光催化氧化設(shè)備沒有機械裝置，沒有運動噪音，沒有專人管理和日常維護，只有定期檢查和維護，維護和能耗成本低，風(fēng)阻極低，可以節(jié)省大量的廢氣動力能耗，達到節(jié)能的目的。
4.光催化氧化設(shè)備采用光解原理和隔爆處理，消除了安全隱患，防火、防爆、防腐性能高，設(shè)備性能安全穩(wěn)定，特別適用于易燃易爆廢氣濃度高的場合。
5.光催化氧化設(shè)備不需要惡臭氣體進行特殊預(yù)處理，如加熱、加濕等。該設(shè)備可在-30℃ ~95℃的工作環(huán)境溫度、30%~98%的濕度和2~13的酸堿度下正常工作，無需添加其他物質(zhì)和試劑參與處理。
6.光催化氧化設(shè)備可以根據(jù)風(fēng)量和氣體濃度靈活配置。采用抽屜式插件安裝方式，配件統(tǒng)一，安裝維護方便。
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