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華為公開“芯片封裝組件、電子設(shè)備及芯片封裝組件的制作方法”專利 華為公開版和官方版有什么區(qū)別

華為技術(shù)有限公司在近日公開了“芯片封裝組件、電子設(shè)備及芯片封裝組件的制作方法”專利,公開號為 CN113707623A。企查查專利摘要顯示,華為本次申請公開了一種芯片封裝組件、電子設(shè)備及芯片封裝組件的制作方法。

芯片封裝組件包括封裝基板、芯片和散熱部,封裝基板包括上導電層、下導電層和連接在上導電層和下導電層之間的導電部;芯片包括相背設(shè)置的正面電極和背面電極,芯片內(nèi)嵌在封裝基板內(nèi),導電部包圍芯片,正面電極與下導電層連接,背面電極與上導電層連接;散熱部連接于上導電層遠離芯片的表面;上導電層、下導電層和導電部均具導熱性能。

本申請通過設(shè)置芯片與封裝基板的上導電層以及下導電層連接,從而芯片產(chǎn)生的熱量可進行雙向傳導散熱,并在上導電層上設(shè)置散熱部,使得芯片封裝組件能夠達到更優(yōu)的散熱效果。

當前,電子設(shè)備越來越輕薄,芯片封裝組件的集成度越來越高,存在著較為嚴重的散熱問題,芯片無法得到有效散熱的話,會有一定的安全隱患,華為這項專利可以較好的解決部分散熱問題。

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