有機(jī)合成

反應(yīng)百科

芐氧羰基保護(hù)基團(tuán)

保護(hù)基

摘要

芐氧羰基(CBZ または z)，通常用于通過形成氨基甲酸酯來保護(hù)胺基。在某些情況下，它也用于保護(hù)醇和酚上的羥基。

在強(qiáng)堿、強(qiáng)酸、弱親核氫化物條件下酯水解對(duì)還原條件有很好的耐受性，可以通過接觸還原條件脫保護(hù)。所以可以結(jié)合Fmoc保護(hù)基和Boc保護(hù)基。

基礎(chǔ)文學(xué)

博格曼；Zervas，L. Ber .1932, 65, 1192.doi:10.1002/cber。18860 . 888888888816

發(fā)展史

這個(gè)保護(hù)基團(tuán)最早是由馬克斯·博格曼在1932年合成的，并應(yīng)用于多肽合成。

保護(hù)

氯甲酸芐酯(Cbz-Cl或z-Cl)常被用作反應(yīng)試劑。反應(yīng)中的堿通常是吡啶或三乙胺。使用無機(jī)堿的Schotten-Baumann條件對(duì)于保護(hù)氨基酸也是常見的。

去保護(hù)

鈀/碳催化的接觸氫還原脫保護(hù)是一種常用的方法。副產(chǎn)物是揮發(fā)性甲苯和CO2だ，因此后處理也非常簡(jiǎn)單。Pd(OH)2可作為難脫保護(hù)的底物。

反應(yīng)示例

Cbz的脫保護(hù)與Boc2O共存，Cbz和Boc的置換可以一步實(shí)現(xiàn)[1]。

在加入方酸衍生物的條件下，雙鍵可以在CBZ、Fmoc和BN保護(hù)基團(tuán)的存在下選擇性還原[2]。

在氨源存在的情況下，Bn基團(tuán)的去保護(hù)受到抑制，CBZ可以被選擇性地去除[3]。

在TMS-I條件下脫保護(hù)[4]。

通過使用鎳催化劑，雜環(huán)氮上的Cbz基團(tuán)可以被選擇性地去除[5]。

實(shí)驗(yàn)提示

Pd(OAc)2とcharcholから PD/c を做了關(guān)于る技術(shù)はより安全に加水が的報(bào)告

參考

Sakaitani, M.; Hori, K.; Ohfune, Y. Tetrahedron Lett. 1988, 29, 2983. doi:10.1016/0040-4039(88)85064-0Shinada, T.; Hayashi, K.-i.; Yoshida, Y.; Ohfune, Y. Synlett 2000, 1506. DOI: 10.1055/s-2000-7655Sajiki, H. Tetrahedron Lett. 1995, 35, 3465. doi:10.1016/0040-4039(95)00527-JTanimori, S.; Fukubayashi, K.; Kirihata, M. Tetrahedron Lett. 2001, 42, 4013. doi:10.1016/S0040-4039(01)00645-1Lipshutz, B. H.; Pfeiffer, S. S.; Reed, A. B. Org. Lett. 2011, 3, 4145. DOI: 10.1021/ol016693lFelpin, F.-X.; Fouquet, E. Chem. Eur. J. 2010, 16, 12440. doi:10.1002/chem.201001377

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